База классическая Classic base, 50 мл

• Наличие: 0
• Модель: 00-00002513

Классическая база для гель-лака CLASSIC BASE – надежное покрытие для идеального маникюра

База под гель-лак CLASSIC BASE обеспечивает отличную адгезию материала к натуральной ногтевой пластине, гарантируя стойкость покрытия. Универсальная формула делает эту базу идеальным выбором для всех типов ногтей, включая нормальные и проблемные.

Основные характеристики CLASSIC BASE:

• Прозрачная база для гель-лака
• Средняя по густоте консистенция с эффектом самовыравнивания
• Усиленное сцепление с ногтем благодаря высокому уровню адгезии
• Кислотность рН 4.5 — оптимально для стойкого покрытия
• Средняя степень пластичности для комфортной носки

Не рекомендуется для людей с аллергией

Не предназначена для выравнивания ногтевой пластины

Как использовать базу под гель-лак CLASSIC BASE:

• Проведите стандартную подготовку ногтей: обработайте пилкой 180 грит и тщательно обезжирьте поверхность.
• Нанесите базу тонким втирающим слоем, равномерно распределяя по ногтю до появления легкого влажного блеска без создания дополнительного объема. Просушите в LED-лампе и удалите липкий слой.
• Для выравнивания используйте базу SOFT или камуфлирующую базу GA&MA. При необходимости выполните укрепление твердыми гелями.

Время полимеризации: 60 секунд в LED-лампе мощностью 48 Вт на каждый ноготь.

Рекомендации по работе с базой CLASSIC BASE:

1. Рекомендуется снимать дисперсионный слой перед нанесением следующего продукта.
2. База требует минимального количества праймера или может использоваться без него.
3. Оптимально наносить и полимеризовать базу по одному пальцу для лучшего результата.

Форматы выпуска:

15 мл с кисточкой — удобна для домашнего маникюра и мастеров

30 мл без кисточки — экономичный вариант для салонов

50 мл с носиком — профессиональный объем для длительного использования

Идеальная база для гель-лака, которая обеспечит прочность и долговечность вашего маникюра. Подходит как для профессионального использования, так и для домашнего ухода за ногтями.